该晶圆加工厂厂座落在华南位置，主耍生孩子8厘米半导体设备晶圆，单日污废水 排出量约800吨。仍然生孩子进程中便用海量氢佛酸对其进行晶圆蚀刻，造成污废水 中氟化物酸度可高达200-300mg/L，远超我国排出基准（10mg/L下面）。 化工废水基本成分及因素 污废水 一般存在几个重要环节： 晶圆蚀刻繁琐流程 ：含高含量氟化物（HF）、硝酸银及一定量高价属 化学上自动化磨光（CMP）污废水 ：含nm级硅粒子、有机会络合剂 机器刷洗废水处理方法 ：含异丙醇、化学需氧量等设计物 工作艺注意事项 通过"电学沉积+混疑沉积+强度净化"三级分销解决程序： 4级操作 ：添加氯化钙和氢氧化物钙，行成氟化钙沉淀自己，氟化物清除率达85% 下级外理 ：含有PAC（缔合氯化铝）和PAM（高分子聚乙烯酰胺），弄掉悬浊液态造成的环境有害特性 三级分销加工处理 ：利用多材质过滤网器和几丁质酶炭吸收，溢水氟化物溶液浓度稳定性在8mg/L以內 要点机收录：pH定时调理系统化、斜管积累池、板框压滤（生活污水脱水现象）。 终结视觉效果 好项目开机运行几年评估参数提示： 氟化物月均质量浓度：7.2mg/L（压低国家地区标准的） COD清除率：92% 污泥处理含水量率：≤65% 年收售氟化钙副品牌约150吨，保持市场化凭借